浙江求是創芯半導體設備有限公司成立于2021年6月10日，注冊地址為浙江省杭州市臨平區余杭經濟技術開發區順達路500號1幢103室，公司法定代表人曹建偉，注冊資本為3750萬，現有員工90人，統一社會信用代碼91330110MA2KH4F16J。經營范圍包括一般項目：半導體器件專用設備制造；半導體器件專用設備銷售；技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣；專用設備制造。（不含許可類專業設備制造）；技術進出口；貨物進出口(除依法須經批準的項目外，憑營業執照依法自主開展經營活動)。
2021年12月22日，浙江求是創芯半導體設備有限公司于臨平區經濟信息化和科學技術局進行備案，針對年產10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導體設備技改項目，總投資約2億，總用地面積9畝，建設規模與建設內容（生產能力）為項目改造利用現有廠房，購置檢測儀器等設備，達產后形成年產10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導體專用設備等生產能力。項目建成后，新增營業收入1.5億元，利稅總額約4000萬。本項目嚴格按照安全生產的相關制度執行。
為配套年產10臺/套EPI外延、LPCVD沉積、ALD沉積半導體設備技改項目，浙江求是創芯半導體設備有限公司擬進行新建特氣房及廠務改造項目（下簡稱“本項目”）。項目建設內容：在求是園區東北角新建占地面積80m2的特氣房，特氣房包括氧化性特氣間、氫氣間、易燃特氣間、劇毒特氣間共4間，用于存放8種危險化學品有氫氣、氨氣、三氟化氮、二氯硅烷（DCS）、甲基硅烷、鍺烷、乙硼烷、砷烷氣體鋼瓶。另廠務改造部分不在本次評價范圍內。
